Ядерно-сканирующий микрозонд в исследовании эпислоев карбида кремния
- Авторы: Бузоверя М.Э.1, Карпов И.А.1, Архипов А.Ю.1, Скворцов Д.А.2, Неверов В.А.2, Мамин Б.Ф.2
- 
							Учреждения: 
							- Федеральное государственное унитарное предприятие Российский федеральный ядерный центр – Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики
- Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Мордовский государственный университет имени Н. П. Огарёва
 
- Выпуск: Том 88, № 8 (2024)
- Страницы: 1287-1292
- Раздел: Фундаментальные вопросы и приложения физики атомного ядра
- URL: https://rjpbr.com/0367-6765/article/view/676758
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0367676524080201
- EDN: https://elibrary.ru/OPKVCM
- ID: 676758
Цитировать
Полный текст
 Открытый доступ
		                                Открытый доступ Доступ предоставлен
						Доступ предоставлен Доступ платный или только для подписчиков
		                                							Доступ платный или только для подписчиков
		                                					Аннотация
Обсуждаются результаты исследования поверхностей образцов гомоэпитаксиальных слоев 4H-SiC методом ядерно-сканирующего микрозонда в режиме обратного резерфордовского рассеяния. Анализ состояния поверхностей образцов, и режимов синтеза показал, что увеличение содержания кремния в верхних слоях некоторых образцов предшествует формированию высокодефектных слоев 4H-SiC.
Об авторах
М. Э. Бузоверя
Федеральное государственное унитарное предприятие Российский федеральный ядерный центр – Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики
														Email: dismos51@gmail.com
				                					                																			                												                	Россия, 							Саров						
И. А. Карпов
Федеральное государственное унитарное предприятие Российский федеральный ядерный центр – Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики
														Email: dismos51@gmail.com
				                					                																			                												                	Россия, 							Саров						
А. Ю. Архипов
Федеральное государственное унитарное предприятие Российский федеральный ядерный центр – Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики
														Email: dismos51@gmail.com
				                					                																			                												                	Россия, 							Саров						
Д. А. Скворцов
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Мордовский государственный университет имени Н. П. Огарёва
							Автор, ответственный за переписку.
							Email: dismos51@gmail.com
				                					                																			                								
Научно-исследовательская лаборатория «Синтез и обработка монокристаллов карбида кремния»
Россия, СаранскВ. А. Неверов
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Мордовский государственный университет имени Н. П. Огарёва
														Email: dismos51@gmail.com
				                					                																			                								
Научно-исследовательская лаборатория «Синтез и обработка монокристаллов карбида кремния»
Россия, СаранскБ. Ф. Мамин
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Национальный исследовательский Мордовский государственный университет имени Н. П. Огарёва
														Email: dismos51@gmail.com
				                					                																			                								
Научно-исследовательская лаборатория «Синтез и обработка монокристаллов карбида кремния»
Россия, СаранскСписок литературы
- Лучинин В.В., Таиров Ю.М. // Изв. вузов. Электроника. 2011. № 6(92). С. 3.
- Афанасьев А.В., Ильин В.А., Лучинин В.В., Решанов С.А. // Изв. вузов. Электроника. 2020. Т. 25. № 6. С. 483.
- Авров Д.Д., Лебедев А.О., Таиров Ю.М. // Изв. вузов. Электроника. 2015. Т. 20. № 3. С. 225.
- Давыдов С.Ю., Лебедев А.А., Савкина Н.С., Волкова А.А. // ЖТФ. 2005. Т. 75. № 4. С. 114; Davydov S.Yu., Lebedev A.A., Savkina N.S., Volkova A.A. // Tech. Phys. 2005. V. 50. No. 4. P. 503.
- Schöler M., Schuh P., Steiner J., Wellmann P.J. // Mat. Sci. Forum. 2019. V. 963. P. 157.
- Давыдов С.Ю., Лебедев А.А., Савкина Н.С. и др. // ФТП. 2004. Т. 38. № 2. С. 153.
- Гаврилов Г.Е., Бузоверя М.Э., Карпов И.А. и др. // Изв. РАН. Сер. физ. 2022. Т. 86. № 8. С. 1155; Gavrilov G.E., Buzoverya M.E., Karpov I.A. et al. // Bull. Russ. Acad. Sci. Phys. 2022. V. 86. No. 8. P. 956.
- Lilov S.K. // Mater. Sci. Engin. B. 1993. V. 21. P. 65.
- Vasiliauskas R., Marinova M., Hens P. et al. // Cryst. Growth Des. 2012. V.12. P. 197.
- Быков Ю.О., Лебедев А.О., Щеглов М.П. // Неорг. матер. 2020. T. 56. № 9. C. 979.
Дополнительные файлы
 
				
			 
						 
						 
						 
					 
						 
									

 
  
  
  Отправить статью по E-mail
			Отправить статью по E-mail 

